• 和创智云HCCL次氯酸钠消毒发生器-净水厂末端消毒设备

    详细信息

     品牌:和创智云  型号:HCCL  加工定制:是  
     规格:50-50000  净重:按规格  耗电量:按规格 Kw/h 
     工作时间:888888 min 额定浓度:6000-8000 ppm 消毒液杀菌率:99.99 % 
     应用领域:污水、饮用水消毒处理    
    次氯酸钠消毒发生器-净水厂末端消毒设备

       净水厂末端的消毒是很重要的,目前使用次氯酸钠发生器来对水厂末端进行消毒处理是非常有作用的,近期吉林省长春市范家屯净水厂就在我司采购了HCCL-10000次氯酸钠发生器2套,目前已经安装调试完成。

    次氯酸钠消毒发生器-净水厂末端消毒设备
        在目前我国环境形势日益严峻,环保要求日益严格的现状下,次氯酸钠发生器这种氯剂发生装置必将为我国环境保护工程、水处理消毒工艺起到不可忽视的作用。
      次氯酸钠是强氧化剂和消毒剂,它是通过取源于广泛价廉的精制细盐或海水稀溶液,经无隔膜电解而发生的。为确保次氯酸钠质地新鲜和有较高的活性。保证消毒效果,本装置一边发生,一边将发生的次氯酸钠投加使用。它与氯和氯的化合物相比,具有相同的氧化性和消毒作用。我司HCCL型次氯酸钠发生器装置,总结国内外现有设备和技术特点,取长补短,精心研究而成的,氯剂制备装置。   
    次氯酸钠发生器工作原理:
    1、在盐水溶液中含有,钠离子、氢离子、氢氧根和氯离子等几种,按照电解理论,当接入电极时,在一定的电压下,电解质溶液由于离子的移动和电极反应,发生导电作用,这时氯离子、氢氧根等阴离子向阳极移动,而钠离子、氢离子等阳离子向阴极移动,并在相应的电极上发生放电,从而进行氧化还原反应,生成相应的物质。
    2、 盐水溶液电解过程可用下列反应方程式表示:
    NaCl =Na+ +Cl-
    阳极电解反用:H2O=H++OH-    2Cl- -2e- →Cl2
    阴极电解反用:2H- +2e-→H2
    3、在无隔膜电解装置中,电解质和电解生成物质氢气从溶液里向外逸出之外,其它均在一个电解槽内,由于氢气在外逸过程中对溶液起到一定的搅拌作用,使两极间的电解生成物发生一系列的化学反应,反应方程式如下:
    2NaCl+2H2O→2NaOH+H2↑+Cl2 
    2NaOH+Cl2→NaClO+NaCl+H2O
    4、在无隔膜电解盐水,溶液的总方程式即为上列两个反应方程式相加得。
    NaCl+H2O+2F→NaClO+H2
    其中:F为法拉第电解常数,其值为26.8安培小时,或96487库伦。
    1、设备自来水进口接入自来水管,自来水压力要求>0.2Mpa
    2、设备排污口连接至排污管/沟
    3、设备排氢口连接至室外
    4、设备投加计量泵投加管连接至加药点
    5、设备接入380VAC三相四线制供电,切忌接入错误电源

    6、设备需要将储存投加系统与主机部分进行对接
    A)主机设备出药口连接至次氯酸钠储存罐进液口
    B)次氯酸钠储存罐高、中、低液位依电路图纸连接至主机的控制系统内
    C)次氯酸钠投加泵相关供电控制线路依电路图纸连接至主机的控制系统内。
    D)将次氯酸钠排污一流接致排水沟
    7、设备盐水箱与主机部分进行对接
    A)将主机软化水接致溶盐罐进水口
    B)溶盐罐浓盐水出口连接至发生器主机
    C)溶盐罐低液位依电路图纸连接至主机的控制系统内
    D)溶盐罐排水溢流接致排水沟

     

     

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